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上海微電子:第一臺28nm國產光刻機交付在即

發布時間:2020/6/8 10:49:25   編輯:dxl
提要: 據媒體報道,上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露,將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。雖然這與當今國際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機還有數代的隔閡,但是差距已經大大縮小,畢竟在此之前國產光刻機還是90nm。
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據媒體報道,上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露,將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。雖然這與當今國際頂尖的7nm乃至是5nm光刻機還有數代的隔閡,但是差距已經大大縮小,畢竟在此之前國產光刻機還是90nm。

據悉,上海微電子是國內技術最領先的光刻設備廠商,從低端切入各個細分市場,現已成為封測龍頭企業的重要供應商,國內市場占有率高達80%,全球市場占有率也有40%,同時旗下LED/MEMS/功率器件光刻機性能指標領先,LED光刻機市占率第一。

上海微電子現有4大系列的光刻機產品,其中600系列步進掃描投影光刻機面向IC前道制造,采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術,以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術,可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產。

500系列面向IC后道先進封裝,300系列面向LED、MEMS、功率器件制造,200系列面向TFT曝光。

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